l1)熱圏大気下部の主成分である H2 の光電離反応の生成率が他反応よりも〜2桁大きいため,これにより下部にH3+,その上に H+ を主成分に持つ電離圏構造が形成されることがわかった.
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l2)太陽光により直接生成されない H3+ も H2+ に追随して日変化を起こし,その生成量は光電離で生成される H2+ の量とほぼ一致する.これは,H2+ の消滅機構(R14), H3+ の消滅機構(R16)の反応係数がともに大きいためである.
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l3)降下粒子などの外部の影響を非常に受けやすい環境である.